Las tensiones entre Estados Unidos y China continúan avanzando ahora con un enfoque en el sector tecnológico. Según el South China Morning Post, científicos del Instituto de Tecnología de Harbin desarrollan una fuente de luz para litografía ultravioleta extrema (EUV) con tecnología única, un avance clave en la producción de chips semiconductores avanzados. Esta iniciativa busca contrarrestar las sanciones impuestas por Estados Unidos y ser un paso adelante en la estrategia de China para superar las restricciones.

El proyecto, liderado por el profesor Zhao Yongpeng, adopta un enfoque distinto a los métodos occidentales para generar luz láser EUV y utiliza una tecnología más eficiente, económica y compacta. Esto demuestra la determinación de China por avanzar tecnológicamente en un contexto de sanciones cada vez más severas.

Innovación en medio de sanciones: la apuesta de China por su industria tecnológica

El desarrollo de maquinaria para la fotolitografía, considerada una de las más complejas en la fabricación de semiconductores, ha sido históricamente dominado por empresas occidentales como ASML.

Este logro llega dentro de un contexto de creciente fricción económica. Recientemente Estados Unidos amplió su lista negra de empresas chinas restringidas y afectaron a más de 140 entidades, entre ellas gigantes como Tencent y CATL. Estas medidas buscan limitar el acceso de China a tecnología avanzada, especialmente en sectores como inteligencia artificial y armamento militar.

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